Physics · Semiconductor Fabrication
अर्धचालक प्रसंस्करण (semiconductor processing) के संबंध में निम्नलिखित कथनों पर विचार कीजिए: 1. आयन आरोपण (ion implantation) के कारण हुई जालक क्षति (lattice damage) को ठीक करने के लिए एनीलिंग (Annealing) की आवश्यकता होती है। 2. एनीलिंग की सफलता को हॉल प्रभाव तकनीक (Hall effect technique) का उपयोग करके मापा जा सकता है। उपरोक्त कथनों में से कौन-सा/से सही है/हैं?
Verified Solution4 OptionsUpdated: October 2026👁️1 View
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सही उत्तर देखें
1 और 2 दोनों
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