वायुमंडल में ओजोन परत का ह्रास मुख्य रूप से किस रासायनिक यौगिक के कारण होता है?

सही उत्तर:

• (B) क्लोरोफ्लोरोकार्बन (CFCs)

स्पष्टीकरण:

क्लोरोफ्लोरोकार्बन (CFCs) का उपयोग मुख्य रूप से रेफ्रिजरेटर, एयर कंडीशनर, और विभिन्न स्प्रे कैंस (एरोसोल) में शीतलक के रूप में किया जाता है।

जब ये यौगिक वायुमंडल की ऊपरी परत (समताप मंडल) में पहुँचते हैं, तो पराबैंगनी किरणों के प्रभाव से इनसे क्लोरीन के मुक्त मूलक (radicals) निकलते हैं।

ये क्लोरीन परमाणु ओजोन (

) के अणुओं को लगातार विघटित करके ऑक्सीजन में बदलते रहते हैं, जो ओजोन परत में क्षरण या छिद्र का मुख्य कारण है।