Environment & Ecology · Environment
निम्नांकित में से कौन सा रसायन ओजोन परत क्षण के लिए मुख्य रूप से जिम्मेदार है?
- 1नाइट्रोजन डाइऑक्साइड
- 2क्लोरोफ्लोरोकार्बन (सीएफसी)✓
- 3मीथेन
- 4कार्बन डाइऑक्साइड
सही उत्तर देखें
क्लोरोफ्लोरोकार्बन (सीएफसी)
व्याख्या
प्रश्न: निम्नांकित में से कौन सा रसायन ओजोन परत क्षण के लिए मुख्य रूप से जिम्मेदार है?
सही उत्तर:
- (C) क्लोरोफ्लोरोकार्बन (सीएफसी)
विस्तृत स्पष्टीकरण:
सीएफसी का स्रोत: क्लोरोफ्लोरोकार्बन (CFCs) सिंथेटिक रसायन हैं जिनका उपयोग मुख्य रूप से रेफ्रिजरेटर, एयर कंडीशनर, फोम और एरोसोल स्प्रे कैंस में शीतलक (Coolant) के रूप में किया जाता था।
ओजोन क्षरण की प्रक्रिया: जब सीएफसी वायुमंडल के समताप मंडल (Stratosphere) में पहुँचते हैं, तो सूर्य की पराबैंगनी (UV) किरणों के प्रभाव से टूटकर क्लोरीन परमाणु मुक्त करते हैं। एक अकेला क्लोरीन परमाणु ओजोन (
𝑂
) के हजारों अणुओं को नष्ट करने की क्षमता रखता है, जिससे ओजोन परत में क्षरण (छेद) होता है।
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